《铸造技术》

文章标题:Cu掺杂SnSe晶体生长及热电性能研究

文章作者:金 敏
关 键 字:SnSe 晶体;Cu 掺杂;坩埚下降法;热电性能
文章摘要:利用坩埚下降法成功制备了具有标准 Pnma 空间群结构的 Cu 掺杂 SnSe 晶体,其尺寸为 φ18 mm×55 mm, Cu 元素在晶体中均匀分布。 该晶体为 P 型半导体材料, 电导率在 600 K 附近具有最低值 4.53 S·cm-1, 载流子浓度在 830 K 下达到 1.69 cm×1 019 cm,Seebeck 系 数 最 大 值 为739.5 μV·K-1,出 现 在 500 K 附 近。 功率因子 PF 随温度升高始 终增加,830 K 下为 4.80 μW·cm-1·K-2。 热电性能 ZT 在 800 K 附近达到最高值 0.83,说明该晶体是一种潜在的中温区热 电材料。